大部分氧化物薄膜具有相似的性能，一般的氧化物材料，如氧化鋁薄膜和二氧化硅薄膜，具有耐高溫、抗熱震、高機械強度和硬度等擁有屬性。

三氧化二鋁材料可以作為研究一種很常用的高折射率材料進行廣泛應用于多層膜介質膜中。三氧化二鋁薄膜因其具有光學系統性能以及優良、機械設計強度與硬度高、透明性與絕緣性好、耐磨、抗蝕及化學惰性等特點而引起社會人們帶來極大的興趣，已經開始廣泛地應用于光學工程領域。其薄膜的光學特性更加強烈依賴于鍍膜工藝生產條件和雜質污染等其他影響因素。其在鍍膜工藝過程中常常因為它自身的穩定性，作為我們最后通過一層膜做保護層。

三氧化二鋁

三氧化二鋁薄膜對光纖進行摻雜來說是一個很有吸引力的一種學習材料，這是我們因為我國氧化鋁在可見光和近紅外目標區域發展沒有可以吸收峰。摻鉺光纖放大器在石英模光纖最低生活能耗波長1.55um處具有增益高、噪聲低、頻帶寬及飽和輸出系統功率大等特點，所以在光纖網絡通信技術中被學生作為研究中繼放大器、功率放大器和前置放大器，是實現全光傳輸的核心功能部件。

二氧化硅

二氧化硅是唯一的低折射率氧化物，低折射率為1.46。作為一種重要的納米薄膜材料，二氧化硅薄膜具有廣闊的透明面積(0.15-8微米)、高硬度、低熱膨脹系數、耐摩擦、耐酸堿、耐腐蝕等優點，廣泛應用于光學薄膜器件、半導體集成電路、電子器件、傳感器、激光器件、化學催化、生物醫學、表面改性、藥品包裝等領域。